Product Introduction

產品介紹




Product Introduction


產品介紹



電漿水洗式尾氣(廢氣)理機- CVD & Etch 多粉塵專用

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:電漿水洗式 for CVD & Etch 多粉塵 process

工藝流程:廢氣預熱處理→渦流電漿高溫裂解(2,000~10,000C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:PFCs Gas (CF4SF6NF3...) & N2O....

燃燒水洗式尾氣(廢氣)處理機

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:燃燒水洗式

工藝流程:天然氣高溫熱裂解有毒氣體→渦流水沖刷腔室保持腔室低於50C°→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:PFCs Gas (CF4SF6NF3...)


加熱水洗式尾氣(廢氣)處理機

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:加熱水洗式

工藝流程:廢氣加熱高溫裂解(600~800C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:可高溫裂解或氧化及可水洗廢氣


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水洗式尾氣(廢氣)處理機

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:水洗式

工藝流程:廢氣進入水洗腔室一, , 三腔室→常溫水洗可被水處裡的氣體

處理氣體:可在常溫被水處理之廢氣


吸附式尾氣(廢氣)處理機

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:吸附式

工藝流程:廢氣進入吸附桶→常溫吸附特定廢氣

處理氣體:可在常溫被吸附劑吸附之廢氣



雙內腔室加熱水洗(廢氣)處理機-MOCVD, EPI, NH3 烤箱, 大流量氫氣 (獨家專利)

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:加熱PCW冷卻式-MOCVD, EPI, NH3 over, 大流量氫氣製程專用

工藝流程:廢氣加熱高溫裂解於內外腔式(600~850C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:NH3: 0-200slm / H2: 0-600slm

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電漿水洗式尾氣(廢氣)處理機- Etch 製程低粉塵專用

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:電漿水洗式

工藝流程:廢氣預熱處理→渦流電漿高溫裂解(2,000~10,000C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:PFCs & HFCs Gas (CF4SF6NF3...)

IPA尾氣(廢氣)處理機- Wet Bench 專用

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:IPA 水洗式(83CMM & 120CMM)

工藝流程:機密 (電洽)

處理氣體:IPA NH3 HF PGMEA & PM2.5......



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去除尾氣(廢氣)粉塵/異味/Nox處理機

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:EP System 安裝於 Local Scrubber 後端或是 Central Scrubber 前或後方(依處裡需觸求)   

工藝流程:機密 (電洽)

處理氣體:異味/粉塵 /酸霧/De-Nox


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觸媒水洗式尾氣(廢氣)處理機

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:觸媒水洗式

工藝流程:廢氣進入觸媒腔室做高溫吸附→酸性氣體水洗並降溫氣體

處理氣體:特氣房或氣瓶櫃溫室氣體或製程含氟氣體不帶粉塵

燃燒水洗式尾氣(廢氣)處理機 - Twin

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:燃燒水洗式-Twin ( 雙腔室雙面板控制 )

工藝流程:天然氣高溫熱裂解有毒氣體→渦流水沖刷腔室保持腔室低於50C°→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:PFCs Gas (CF4SF6NF3...) & N2O..

電漿式水洗式尾氣(廢氣)處理機 - N2O 專用低 NOx 設計

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:電漿式水洗式-處理高流量 N2O 氣體並有效減少副產物 Nox , 低於排放標準

工藝流程:廢氣進入處理腔式→渦流電漿高溫裂解(2,000~10,000C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:N2O & PFCs Gas (CF4SF6NF3...)

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電漿水洗式尾氣(廢氣)處理機 - Twin

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:電漿水洗式-Twin (雙腔室雙面板控制)

工藝流程:廢氣預熱處理→渦流電漿高溫裂解(2,000~10,000C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:PFCs Gas (CF4SF6NF3...) & N2O..

雙內腔室加熱水洗(廢氣)處理機-MOCVD, EPI, NH3 烤箱, 大流量氫並有腐蝕氣體製程專用 (獨家專利)

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:加熱水洗式

工藝流程:廢氣加熱高溫裂解於內外腔式(600~850C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:NH3: 0-200slm / H2: 0-600slm

電漿水洗式尾氣(廢氣)理機- 冷媒銷毀 & 高氟氣 (F2) 製程專用 (獨家專利)

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:電漿水洗式+De-HCFC system

工藝流程:廢氣進入反應腔室處理→De-HCFC system 與冷媒或高氟氣反應經渦流電漿高溫裂解(2,000~10,000C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:HCFCs gas (R134, R22, R407A.....) & 半導體含大量氟氣製程

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電漿水洗式尾氣(廢氣)理機- EPI 含量 TESO & SiH4 等多粉製程專用

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:電漿水洗式 + 特殊控制系統 (可依據溫度調節水量)

工藝流程:廢氣進入反應腔室處理→流入氣體與經渦流電漿高溫裂解(2,000~10,000C°)→水洗可溶解毒氣→水洗降溫排氣

處理氣體:H2: 200slm & SiH4 , TESO 等高粉塵副產物製程

CMS 中央監控系統 - Local Scrubber 機台用

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:Local Scubber 附屬設備

機型 : CHIYO_LS_CMS  

監控範圍 : 電壓 , 電流 , 壓力 , 溫度 ..... 相關參數 , Alarm record , 直接轉為 excel 直接判別分析 Local scrubber , pump , pipe 或主機台所產生的問題   


Powder Trap

保護環境是我們每個人的責任

Trap 類型:Front of Pump / Rear of Pump

機型 : Cold Trap (PCW)   / Coil Trap / Foaming Trap / Combi Trap   


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水洗式尾氣(廢氣)理機

保護環境是我們每個人的責任

機台類型:水洗式

工藝流程:廢氣進入水洗腔室一、二腔室→常溫水洗可被水處理的氣體

處理氣體:可在常溫被水處理之廢氣

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