繁体
繁体
¦
中文
¦
English
搜索
首頁
Home
關於我們
About Us
主要產品
Nav
新聞資訊
Nav
參展分享
Nav
與我們聯絡
Contact Us
2016 高科技產業環保永續發展國際研討會
2017 世界半導體環安衛-舊廠房改造
2019 台灣半導體高科技節能減碳論壇
留言板
产品分类
Local Scrubber / 廢氣處理機
Chiller / 冰水機
Cold Trap / 冷井
EP System / 靜電系統
Local Scrubber_ 附屬設備
Online service
Service 1
工作時間
周一至周五 :9:00-18:00
聯繫方式
Mailbox:leo.hsieh@chiyotw.com
Contact Number:+ 886 3-5369126
產品清單
已選擇:
SERIES / 系列 : Plasma 電漿系列
APPLICABLE / 適用制程
:
MOCVD , EPI , 外延 , 大流量氫(H2)等多粉塵製程
HCFCs (冷媒) & F2 Gas 專用
Etch 低粉塵製程, PFCs & HFC Gas , 特氣房氣瓶櫃適用
CVD , Etch , Diffusion 適用
EQUIPMENT MODEL / 設備型號
:
EcoPlasma_Twin
EcoPlasma-E
EcoPlasma-T
EcoPlasma-F (冷媒 & F2 Clean 氣體專用)
EcoPlasma-Epi
CAPACITY / 處理能力
:
H2: 200slm
HCFCs (冷媒) 2kg/Hr.
500slm * 2
300slm
500slm
名稱
上架時間
價格
-
確定
1
/1
幻燈片
Plasma - EPI
SERIES / 系列:
Plasma 電漿系列
APPLICABLE / 適用制程:
MOCVD , EPI , 外延 , 大流量氫(H2)等多粉塵製程
EQUIPMENT MODEL / 設備型號:
EcoPlasma-Epi
EcoPlasma F
SERIES / 系列:
Plasma 電漿系列
APPLICABLE / 適用制程:
HCFCs (冷媒) & F2 Gas 專用
EQUIPMENT MODEL / 設備型號:
EcoPlasma-F (冷媒 & F2 Clean 氣體專用)
Ecoplasma-Twin
SERIES / 系列:
Plasma 電漿系列
APPLICABLE / 適用制程:
CVD , Etch , Diffusion 適用
EQUIPMENT MODEL / 設備型號:
EcoPlasma_Twin
EcoPlasma T
SERIES / 系列:
Plasma 電漿系列
APPLICABLE / 適用制程:
CVD , Etch , Diffusion 適用
EQUIPMENT MODEL / 設備型號:
EcoPlasma-T
EcoPlasma E
SERIES / 系列:
Plasma 電漿系列
APPLICABLE / 適用制程:
Etch 低粉塵製程, PFCs & HFC Gas , 特氣房氣瓶櫃適用
EQUIPMENT MODEL / 設備型號:
EcoPlasma-E
上一頁
1
下一頁